《標(biāo)準(zhǔn)必要專利發(fā)展報告(2024年)》全文公開發(fā)布

2024-10-11

  當(dāng)前,全球科技創(chuàng)新進入空前密集活躍的時期,新一輪科技革命和產(chǎn)業(yè)變革正在重構(gòu)全球創(chuàng)新版圖,強化標(biāo)準(zhǔn)與專利兩種戰(zhàn)略性創(chuàng)新資源協(xié)同發(fā)展的重要意義日趨凸顯。作為標(biāo)準(zhǔn)與專利深度融合的產(chǎn)物,標(biāo)準(zhǔn)必要專利已成為國際組織、全球主要國家(地區(qū))關(guān)注的戰(zhàn)略要素,也是關(guān)鍵領(lǐng)域技術(shù)、市場和產(chǎn)業(yè)競爭的焦點。

  為更好落實《國家創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略綱要》《國家標(biāo)準(zhǔn)化發(fā)展綱要》《知識產(chǎn)權(quán)強國建設(shè)綱要(2021—2035年)》 以及《中共中央、國務(wù)院關(guān)于加快建設(shè)全國統(tǒng)一大市場的意見》等國家綱領(lǐng)性文件部署,中國標(biāo)準(zhǔn)化研究院充分發(fā)揮國家級標(biāo)準(zhǔn)化科研機構(gòu)功能作用,在對國際、國外與國內(nèi)有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)必要專利政策制度與實踐活動的長期觀察研判,以及對中國標(biāo)準(zhǔn)化研究院所掌握的300多萬條標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)挖掘分析的基礎(chǔ)上,編寫形成《標(biāo)準(zhǔn)必要專利發(fā)展報告(2024年)》(以下稱“報告”)。

  報告面向政府有關(guān)部門、社會團體、高等院校、研究機構(gòu)、企業(yè)以及從事標(biāo)準(zhǔn)必要專利相關(guān)工作的人員,主要回顧剖析近年來國內(nèi)外有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)必要專利的重要政策、相關(guān)案例與數(shù)據(jù),旨在全面、系統(tǒng)、客觀展現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)必要專利整體發(fā)展態(tài)勢,以提升各相關(guān)方對標(biāo)準(zhǔn)必要專利問題的認(rèn)識和了解,進而更好掌握標(biāo)準(zhǔn)必要專利相關(guān)理論、政策,推動先進適用科技創(chuàng)新成果及時融入標(biāo)準(zhǔn),加強標(biāo)準(zhǔn)制定過程中的知識產(chǎn)權(quán)保護,促進創(chuàng)新成果產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,更好服務(wù)于新質(zhì)生產(chǎn)力培育和發(fā)展。

  附件: 《標(biāo)準(zhǔn)必要專利發(fā)展報告(2024年)》全文

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