據(jù)悉，智利新知識產權法正在國會進行最后討論，有望幾個月后生效。智利知識產權法自1991年頒布以來（IP Law 19.039），經歷了2005年、2007年和2012年三次修訂。此次修訂涉及發(fā)明、實用新型和工業(yè)外觀設計主要內容如下：

　　1.發(fā)明專利新增臨時申請

　　2.外觀設計可不進行實審

　　目前，外觀設計的注冊程序與發(fā)明專利的審查程序相同，即進行實審。改法后，新增了一種簡化程序，即無需實審即可注冊。這種“簡化”程序會與實審程序（新穎性和獨特性審查）并存。

　　3.延長外觀設計保護期限

　　目前，外觀設計的保護期限為10年，新法案提議，將其保護期限延長為15年，即第一次授予期限為5年，且每五年續(xù)展一次。

　　4.優(yōu)先權恢復

　　目前的立法對巴黎公約和PCT途徑的優(yōu)先權恢復存在差異。PCT途徑進入智利國家階段，申請人可以在優(yōu)先權期限屆滿后的兩個月內要求恢復優(yōu)先權。改法后，優(yōu)先權恢復將同樣適用于巴黎公約途徑進入的申請案件。

　　5.更為靈活的年費支付方式

　　目前，智利發(fā)明、實用新型、外觀設計以及集成電路的年費為每十年或每五年支付一次，具體取決于專利保護類型。該法案提出了一種選擇，使申請人可以選擇每年支付的方式與現(xiàn)行的方式并存。

　　6.增加超頁官費

　　目前對于申請文件頁數(shù)并無額外的附加費，該法案規(guī)定，對于申請文件頁數(shù)為80頁以上的將收取超頁費。

　　7.縮短專利補充保護的請求期限

　　根據(jù)現(xiàn)行的《工業(yè)產權法》第19.039號規(guī)定，由于以下原因，申請人可以請求延長專利保護期限：（a）藥品專利的注冊程序或衛(wèi)生注冊程序中存在不合理的行政延遲，并且（b）專利注冊程序從申請之日起算超過五年或從請求實審起算超過三年。該法案將請求補充保護的期限減少到60天內（目前是6個月），并規(guī)定補充保護的期限不得超過5年。

　　8.關于重啟案件的期限規(guī)定

　　現(xiàn)行法律規(guī)定，對于不符合審查要求的申請且申請人未在合理期限內進行處理，該申請將被視為放棄并存檔。但申請人享有120天的時間請求重新啟動該案件。根據(jù)新法案的規(guī)定，請求重新啟動案件的期限縮短為自發(fā)出放棄通知起45天內。

　　9.對于非法專利權人的法律新規(guī)

　　根據(jù)現(xiàn)行法律，如果一項發(fā)明專利是由無權注冊的申請人注冊，則其合法所有者只能要求宣布其注冊無效。新法案規(guī)定，專利權人有權要求無權注冊人轉讓該專利所有權并承擔相應的損害賠償，訴訟時效為自專利注冊之日起五年內。