3月1日，日本內(nèi)閣通過了一項發(fā)明專利與外觀專利的修正案，該修正案有望在2019年年底予以實施。此次修正案的主要內(nèi)容包括：（i）改進(jìn)知識產(chǎn)權(quán)侵權(quán)的訴訟系統(tǒng)；（ii）擴(kuò)大和改進(jìn)外觀保護(hù)系統(tǒng)。

　　其中，知識產(chǎn)權(quán)侵權(quán)訴訟系統(tǒng)的改進(jìn)內(nèi)容主要包括：

　?。╝）擴(kuò)大和改進(jìn)了秘密審查（in-camera）程序，不僅僅是決定文件所有者是否有足夠理由拒絕披露文件，還可以決定這些文件對于證明侵權(quán)或者證明侵權(quán)損失是否是必要的，另外，法庭對于文件的披露，也可以在雙方同意的情況下，披露給專家顧問；

　?。╞）建立了一個新的稽核系統(tǒng)（inspection system），該系統(tǒng)允許訴訟中的一方收集必要的證據(jù)來證明訴訟相關(guān)的事實；

　?。╟）改進(jìn)了計算損失額的方法，修正案規(guī)定由于專利所有權(quán)人的生成和銷售能力有限而不利于計算其損失的利益時，專利所有權(quán)人也可以要求基于合理的許可使用費來聯(lián)合計算其損失額，這有利于中小企業(yè)或初創(chuàng)企業(yè)在知識產(chǎn)權(quán)侵權(quán)案件中獲得足夠的補償。

　　外觀保護(hù)系統(tǒng)的改進(jìn)內(nèi)容主要包括：

　?。╝）擴(kuò)大外觀專利的保護(hù)主題，將擴(kuò)大保護(hù)未在產(chǎn)品上顯示或記錄的圖片以及建筑物的外觀和內(nèi)部裝飾；

　?。╞）修正關(guān)聯(lián)外觀系統(tǒng)，將申請關(guān)聯(lián)外觀的期限由目前的基礎(chǔ)外觀注冊公告前延長至基礎(chǔ)外觀專利申請日起的10年內(nèi)，另外，僅與關(guān)聯(lián)外觀相似的外觀設(shè)計將可能注冊；

　?。╟）修改外觀專利的保護(hù)期限，由目前的注冊之日起20年修改為申請之日起25年；

　?。╠）簡化外觀申請程序，包括允許多項外觀設(shè)計申請，以及廢除商品類別；

　?。╡）添加間接侵權(quán)的規(guī)定，規(guī)定當(dāng)侵權(quán)者明知道商品是在外觀產(chǎn)品實施中使用時，進(jìn)口以及制造被分解成組成部分的侵權(quán)產(chǎn)品也將視為侵權(quán)。

　　4月1日起，根據(jù)修訂后的專利法與內(nèi)閣法令，日本專利局（JPO）實施了新的官費減免政策，降低了符合減免條件的標(biāo)準(zhǔn)，擴(kuò)大了減免政策的適用范圍。同時，為了補償由于新的減免政策導(dǎo)致的JPO財政收入的減少，自4月1日起，JPO對專利申請中的實審請求費相應(yīng)地上調(diào)了約17%。

　　JPO實行的官費減免政策包括兩個體系：

　?。ˋ）微小實體（SMEs）和研發(fā)機(jī)構(gòu)（RDEs）的費用減免體系（本次修訂添加），適用于在2019年4月1日起提交實審請求的所有發(fā)明專利申請。該系統(tǒng)適用于包括海外申請人在內(nèi)的各種類型的微小實體和研發(fā)機(jī)構(gòu)，且無需提供證據(jù)；

　　（B）為資金不充足企業(yè)提供的官費豁免、減少以及寬限系統(tǒng)（已存在），適用于2014年4月1日起提交實審請求的所有發(fā)明專利申請。該系統(tǒng)僅適用于日本國內(nèi)的申請人，條件較為苛刻，且需要提供證據(jù)。

　　JPO官費減免政策適用的官費種類包括：（a）發(fā)明專利申請中的請求實審費；（b）發(fā)明專利授權(quán)后應(yīng)繳納的第1年至第10年的年費。

　　關(guān)于微小實體（SMEs）和研發(fā)機(jī)構(gòu)（RDEs）的費用減免體系，JPO官費減免政策適用的申請人資格以及官費減免情況，如下表所列：

　　例：假設(shè)一件包括10項權(quán)利要求的PCT申請進(jìn)入日本國家階段，且最終授權(quán)文本也包含10項權(quán)利要求，那么不同類型的申請人需要繳納的請求實審費與第1年至第10年的年費情況如下：