文/北京集佳知識產權代理有限公司 隋丹丹

　　美國專利再頒程序是一種允許專利權人在專利授權后對專利文件進行修改的法律程序。這項程序旨在糾正專利文件中存在的缺陷，提高專利的價值和應用范圍。本文筆者簡單介紹一下美國專利再頒的程序和意義。

　　一、定義

　　專利再頒程序允許專利權人從專利正式授權日開始，重新申請啟動該專利的審查程序，要求對該專利申請文件中的權利要求進行再次審查，以克服原專利申請文件中存在的缺陷，或擴大或縮小權利要求的保護范圍。再頒專利意味著放棄（surrender）原專利。

　　二、再頒程序的基準（美國專利法第251條）

　?。ㄒ唬＠麢嗳诵枰C明原專利存在缺陷或專利權人在申請文件中要求保護的范圍不準確，使得原專利部分或全部無效或無法實施。

　?。ǘ┻@些缺陷是由沒有欺詐意圖（deceptive intent）的錯誤造成的。

　?。ㄈ┰兕C專利必須得到原說明書的支持，不得增加新內容。

　　（四）對于范圍擴大的再頒請求，必須在原專利授權后2年內提出。

　?。ㄎ澹τ诜秶s小的請求可在專利有效期內任何時間提出。

　　三、再頒程序的效力（美國專利法第252條）

　　再頒專利的有效期限始終為原專利期限的剩余部分。

　　如果再頒專利保護范圍不變或縮小，其權利要求效力與原專利相同，即再頒專利構成原專利的延續(xù)，并從原始專利之日起持續(xù)有效。

　　如果保護范圍擴大，則新的權利要求可能會受到第三方介入權的限制：

　?。ㄒ唬┤绻趯＠麢嗳双@得再頒專利之前，第三方生產制造了不侵犯原專利但侵犯再頒專利的產品，允許他們對再頒專利授權前已經實施或準備實施的技術繼續(xù)使用或銷售，但不允許制造新產品。

　?。ǘ┤绻兕C專利為方法專利，美國法院可以準許繼續(xù)實施在再頒專利之前已經實施或已經充分準備實施的任何方法，只要法院認為對于保護再頒專利前已經做出的投資和已經開始的業(yè)務是公平的。

　　 四、再頒程序的優(yōu)勢和風險

　　再頒程序為專利權人提供了修改專利申請文件的途徑，允許糾正專利文件中的缺陷或加入針對競爭者產品的權利要求。但風險在于，再頒程序相當于重新審查新專利申請，若再頒申請并未被批準，則原專利繼續(xù)有效；若再頒申請被授權，則原專利權不復存在。再頒程序意味著專利權人承認其原專利存在部分或全部無效或無法實施的情形，這可能使專利權人在專利訴訟中處于不利地位。

　　五、再頒程序（Reissue）與再審程序（Reexamination）的比較

　　再頒程序與再審程序均可用于修正專利授權缺陷和錯誤。不同的是，再頒程序只能由專利權人啟動，其是專利權人對專利權的自我修正。再審程序可以由多方當事人啟動，包括專利權人、非專利權人等，其可以是修正USPTO在審查中造成的專利授權缺陷和錯誤。

　　六、再頒程序失敗之后的策略

　　如果專利再頒程序失敗，專利權人可以考慮調整策略以保護其專利權益，例如考慮其他法律程序單方再審（Ex Parte Reexamination）或多方重審（Inter Partes Review, IPR）、補充審查（Supplemental Examination）、更正證書（Certificates of Correction）、重新申請等策略最大限度地保護其專利權益。

　　七、再頒程序的常用情況——擴大已授權專利的范圍

　?。ㄒ唬U大已授權專利的范圍

　　除了更正原專利中存在的缺陷之外，在實踐操作中，再頒專利還具有擴大已授權專利的范圍的作用。也就是說，原專利權利要求的范圍比應有的范圍窄，使得競爭對手有可能推出圍繞原專利權利要求設計的產品。

　?。ǘ┰兕C專利的理由

　　由上述“審查基準”可見，專利必須“有缺陷”才能申請再頒專利。符合條件的缺陷之一是權利要求范圍太窄。因此，專利權人可以提交擴大的再頒專利申請，擴大原專利權利要求的范圍或者加入針對競爭者產品的新的權利要求，從而避免侵權。但是必須注意期限，擴大的再頒專利申請必須在原專利授權日起兩年內提交。

　?。ㄈ┰瓕＠麢嗬蠓秶倪m用情況

　　原專利權利要求范圍太窄的一種適用情況是競爭對手在其制造的產品中省略了原專利獨立權利要求中的一些特征。假設原專利的一項獨立權利要求記載了特征ABC，而競爭對手推出了一款僅具有特征AB的產品，即競爭產品忽略了特征C。因此，我們可以提交包含特征AB的再頒申請。

　?。ㄋ模┨峤粩U大的再頒申請的程序

　　提交擴大的再頒申請后，USPTO將以類似于審查原始專利的方式對再頒專利申請進行審查。再頒程序由原審查員處理。審查員將檢索并發(fā)出審查意見。申請人有機會通過提交權利要求修改和爭辯作出回復。如果擴大的再頒專利申請被授權，將最終獲得再頒專利。

　?。ㄎ澹┰兕C專利申請為專利授權后的繼續(xù)申請?zhí)峁┝艘粋€途徑

　　一般來說，在母專利被授權后，繼續(xù)申請也失去了時機。但是如果申請再頒申請，在該再頒申請?zhí)幱趐ending狀態(tài)時，可以提交再頒繼續(xù)申請。

　　總之，再頒程序作為美國專利申請制度獨特性的一個方面，為專利權人提供了一種可以糾正專利缺陷的手段，使得專利權人的權利得到了最大程度的保護，提高了專利的價值和應用范圍，促進了科技創(chuàng)新。