文/北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 柳虹

　　摘要：在實際撰寫過程中，如存在引用的權(quán)利要求不包括引用對象的情況，可以具體分析該引用對象的含義在不對其進行限定時是否清楚，是否影響該多項從屬權(quán)利要求或同類獨立權(quán)利要求所描述的方案的完整性，在引用對象足夠清楚不影響方案完整性的情況下直接刪除“所述”即可，在引用對象不清楚影響方案完整性的情況下需要補充相關(guān)限定內(nèi)容，或者放棄引用不包含引用對象的權(quán)利要求，從而克服權(quán)利要求缺乏引用基礎(chǔ)的問題。

　　根據(jù)專利法第二十六條第四款規(guī)定，權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護的范圍。根據(jù)專利法實施細(xì)則第二十五條的規(guī)定，引用兩項以上權(quán)利要求的多項從屬權(quán)利要求，只能以擇一方式引用在前的權(quán)利要求，并不得作為另一項多項從屬權(quán)利要求的基礎(chǔ)。

　　在實際撰寫過程中，多項從屬權(quán)利要求中的引用對象可能并不存在于其所引用的全部權(quán)利要求中，容易造成該多項從屬權(quán)利要求存在缺乏引用基礎(chǔ)的問題，進而存在保護范圍不清楚的問題。舉例來說，權(quán)利要求1記載了第一位置信息，權(quán)利要求2引用權(quán)利要求1且記載了第二位置信息，權(quán)利要求3引用權(quán)利要求1或權(quán)利要求2時，若記載“所述第一位置信息和所述第二位置信息”，則當(dāng)其引用權(quán)利要求1時，“所述第二位置信息”缺乏引用基礎(chǔ)，導(dǎo)致權(quán)利要求不清楚。

　　這類問題在同類獨立權(quán)利要求之間的引用時同樣存在，針對這種情況，在撰寫過程中如何進行規(guī)避，以及在審查階段如何通過修改來克服這種問題，可以分情況進行針對性修改。實踐中，可以具體分析該引用對象的含義在不對其進行限定時是否清楚，是否影響該多項從屬權(quán)利要求或同類獨立權(quán)利要求所描述的方案的完整性。

　　下面結(jié)合具體案例進行詳細(xì)說明。

　　案例1：

　　1、一種等離子反應(yīng)器，其特征在于，包括：

　　基座，用于支撐被處理基片；……

　　2、一種等離子反應(yīng)器，其特征在于，包括：

　　下電極，用于支撐被處理基片；……

　　3、一種使用權(quán)利要求1或2的等離子反應(yīng)器進行刻蝕的方法，其特征在于，包括：

　　放置待處理基片到所述基座或所述下電極上；……

　　以上的獨立權(quán)利要求3，引用了權(quán)利要求1或2，涉及權(quán)利要求1中的“基座”和權(quán)利要求2中的“下電極”，然而在引用權(quán)利要求1時“所述下電極”缺乏應(yīng)用基礎(chǔ)，在引用權(quán)利要求2時“所述基座”缺乏引用基礎(chǔ)。

　　針對以上問題，經(jīng)過調(diào)研可知，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，通常下電極包括基座以及其他部件，基座和下電極用于支撐被處理基片，是公知常識。因此，即使不對基座和下電極的功能進行限定，本領(lǐng)域技術(shù)人員也能知曉基座和下電極的作用和關(guān)系，其含義相對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是清楚的，不影響權(quán)利要求3中方案的完整性。因此可以直接刪除“所述基座或所述下電極”中的兩個“所述”，克服權(quán)利要求3缺乏引用基礎(chǔ)的問題，使修改后的權(quán)利要求3清楚。

　　案例2：

　　1、一種檢測方法，其特征在于，

　　利用檢測設(shè)備對第一特征點進行檢測得到第一位置信息；

　　利用所述檢測設(shè)備對第二特征點進行檢測得到第二位置信息；所述第一特征點和所述第二特征點之間具有預(yù)設(shè)距離；

　　根據(jù)所述第一位置信息、所述第二位置信息和所述預(yù)設(shè)距離，確定所述檢測設(shè)備的實際位置和基準(zhǔn)位置之間的相對位移。

　　2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一位置信息包括所述第一特征點沿第一方向的第一位置分量，以及沿第二方向的第二位置分量；所述第二位置信息包括所述第二特征點沿第一方向的第三位置分量，以及沿第二方向的第四位置分量。

　　3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，所述根據(jù)所述第一位置信息、所述第二位置信息和所述預(yù)設(shè)距離，確定所述檢測設(shè)備的實際位置和基準(zhǔn)位置之間的位移，包括：

　　建立所述第一位置信息、所述第二位置信息、所述相對位移與所述預(yù)設(shè)距離之間的關(guān)系等式；

　　根據(jù)所述關(guān)系等式獲取所述相對位移。

　　4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，所述建立所述第一位置信息、所述第二位置信息、所述相對位移與所述預(yù)設(shè)距離之間的關(guān)系等式，包括：

　　根據(jù)所述第一位置分量和所述第三位置分量，確定所述第一特征點和所述第二特征點沿所述第一方向的第一距離分量；

　　根據(jù)所述第二位置分量和所述第四位置分量，確定所述第一特征點和所述第二特征點沿所述第二方向的第二距離分量；

　　利用所述第一距離分量、所述第二距離分量、所述預(yù)設(shè)距離和所述第一方向和所述第二方向之間的夾角，建立關(guān)系等式。

　　……

　　以上的權(quán)利要求3引用多項權(quán)利要求，權(quán)利要求4引用權(quán)利要求3，相當(dāng)于也是引用多項權(quán)利要求，在權(quán)利要求3引用權(quán)利要求1時，權(quán)利要求4中出現(xiàn)“所述第一位置分量”、“所述第二位置分量”、“所述第三位置分量”和“所述第四位置分量”缺乏引用基礎(chǔ)的問題。這幾個分量根據(jù)具體方案相關(guān)，在未經(jīng)限定時，本領(lǐng)域技術(shù)人員不能得出其實際含義，導(dǎo)致權(quán)利要求4的方案整體的完整性受到影響，因此簡單將“所述”刪除，還是存在各個位置分量不清楚的問題，因此需要從實際方案出發(fā)對其進行修改。

　　筆者有如下兩種修改方式供參考：

　　第一種，在權(quán)利要求4中補充各個位置分量的限定：將“所述第一位置分量”修改為“所述第一位置信息沿第一方向的第一位置分量”，將“所述第二位置分量”修改為“所述第二位置信息沿第二方向的第二位置分量”，以此類推。這種修改方式使修改后的權(quán)利要求4和權(quán)利要求2存在重復(fù)內(nèi)容，顯得冗余，在權(quán)利要求3引用更多項時可能要增加非常多的內(nèi)容，但是能夠同時保留權(quán)利要求1+3+4和1+2+3+4對應(yīng)的范圍。

　　第二種，將權(quán)利要求3的引用基礎(chǔ)從權(quán)利要求1或2調(diào)整為權(quán)利要求2，這樣舍棄了權(quán)利要求1+3+4對應(yīng)的范圍，僅保留權(quán)利要求1+2+3+4對應(yīng)的范圍，同樣可以克服權(quán)利要求4缺乏引用基礎(chǔ)的問題。

　　以上兩種修改方式可以根據(jù)實際情況選擇使用，綜合考慮保護范圍，以及重復(fù)內(nèi)容的體量和重要程度，選擇合適的修改方式。以上示例的引用邏輯相對簡單，在面對更為復(fù)雜的引用邏輯時，同樣可以遵循以上原則進行應(yīng)對。

　　綜上所述，在實際撰寫過程中，如存在引用的權(quán)利要求不包括引用對象的情況，可以具體分析該引用對象的含義在不對其進行限定時是否清楚，是否影響該多項從屬權(quán)利要求或同類獨立權(quán)利要求所描述的方案的完整性，在引用對象足夠清楚不影響方案完整性的情況下直接刪除“所述”即可，在引用對象不清楚影響方案完整性的情況下需要補充相關(guān)限定內(nèi)容，或者放棄引用不包含引用對象的權(quán)利要求，從而克服權(quán)利要求缺乏引用基礎(chǔ)的問題。

　　以上是筆者在進行權(quán)利要求撰寫的過程中的總結(jié)思考，其中若有不妥之處，還請讀者批評指教。