3月22日，最高人民法院在京發(fā)布了《最高人民法院關于審理侵犯專利權糾紛案件應用法律若干問題的解釋（二）》（下稱“專利司法解釋二”），這是繼2009年發(fā)布專利司法解釋后，最高人民法院再次發(fā)布有關專利侵權判定標準的司法解釋。共計31條的“專利司法解釋二”將于今年4月1日起施行，主要涉及權利要求解釋、間接侵權、標準實施抗辯、合法來源抗辯、停止侵權行為、賠償額計算、專利無效對侵權訴訟的影響等專利審判實踐中的重點難點問題。

　　最高人民法院知識產權庭庭長宋曉明介紹，“專利司法解釋二”堅持問題導向，加大專利權司法保護力度，在現行法律框架下盡可能地解決專利訴訟中“周期長、舉證難、賠償低”等突出問題，緊密結合目前正在征求意見的專利法修訂草案。

　　“專利司法解釋二”第二十一條規(guī)定了專利間接侵權制度，進一步強化了對專利權人的保護；針對“舉證難、賠償低”的問題；“專利司法解釋二”第二十七條對專利侵權訴訟中有關賠償數額的舉證規(guī)則進行了一定程度的完善；針對案件審理周期較長的問題，“專利司法解釋二”第二條設計了“先行裁駁、另行起訴”的制度，即在專利復審委員會作出宣告專利權無效的決定后，審理專利侵權糾紛案件的法院可以裁定“駁回起訴”，無需等待行政訴訟的最終結果，并通過“另行起訴”給權利人以司法救濟途徑。

　　據悉，“專利司法解釋二”堅持折中解釋原則，強化權利要求的公示和劃界作用，增強專利權保護范圍的確定性，為社會公眾提供明確的法律預期，促使專利文件撰寫水平的提高。同時，該司法解釋還堅持利益平衡原則，厘清專利權與其他民事權利的法律邊界，既保護權利人的正當權益，鼓勵發(fā)明創(chuàng)造，又避免專利權不適當地擴張，防止壓縮再創(chuàng)新空間和損害公共利益、他人合法權益。（來源：知識產權報）